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UV真空镀 膜喷涂线镀膜时经常注意问题

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UV真空镀 膜喷涂线镀膜时经常注意问题

1、基片材 料与靶材的晶格匹配程度

2、基片表面温度

3、蒸发功率,速率

4、真空度

5、镀膜时间,厚度大小。

2、基片温度

3、蒸发速率

二、.对于溅射类镀膜,可以简 单理解为利用电子或高能激光轰击靶材,并使表 面组分以原子团或离子形式被溅射出来,并且最 终沉积在基片表面,经历成膜过程,最终形成薄膜。溅射镀 膜又分为很多种,总体看,与蒸发 镀膜的不同点在于溅射速率将成为主要参数之一。溅射镀 膜中的激光溅射镀膜pld,组分均匀性容易保持,而原子 尺度的厚度均匀性相对较差(因为是脉冲溅射),晶向(外沿)生长的 控制也比较一般。以pld为例,因素主要有:靶材与 基片的晶格匹配程度、镀膜氛围(低压气体氛围)、基片温度、激光器功率、脉冲频率、溅射时间。对于不 同的溅射材料和基片,最佳参 数需要实验确定,是各不相同的,镀膜设 备的好坏主要在于能否精确控温,能否保证好的真空度,能否保 证好的真空腔清洁度。MBE分子束外沿镀膜技术,已经真 空镀膜过程非常复杂,由于镀 膜原理的不同分为很多种类,仅仅因 为都需要高真空度而拥有统一名称。所以对 于不同原理的真空镀膜,影响均 匀性的因素也不尽相同。并且均 匀性这个概念本身也会随着镀膜尺度和薄膜成分而有着不同的意义。

1.厚度上的均匀性,也可以理解为粗糙度,在光学 薄膜的尺度上看(也就是1/10波长作为单位,约为100A),真空镀 膜的均匀性已经相当好,可以轻 松将粗糙度控制在可见光波长的1/10范围内,也就是 说对于薄膜的光学特性来说,真空镀 膜没有任何障碍。但是如 果是指原子层尺度上的均匀度,也就是说要实现10A甚至1A的表面平整,是现在 真空镀膜中主要的技术含量与技术瓶颈所在,具体控 制因素下面会根据不同镀膜给出详细解释。

2.化学组分上的均匀性:就是说在薄膜中,化合物 的原子组分会由于尺度过小而很容易的产生不均匀特性,SiTiO3薄膜,如果镀膜过程不科学,那么实 际表面的组分并不是SiTiO3,而可能是其他的比例,镀的膜 并非是想要的膜的化学成分,这也是 真空镀膜的技术含量所在。

真空镀 膜过程非常复杂,由于镀 膜原理的不同分为很多种类,仅仅因 为都需要高真空度而拥有统一名称。所以对 于不同原理的真空镀膜,影响均 匀性的因素也不尽相同。并且均 匀性这个概念本身也会随着镀膜尺度和薄膜成分而有着不同的意义。

薄膜均匀性的概念:厚度上的均匀性,也可以理解为粗糙度,在光学 薄膜的尺度上看(也就是1/10波长作为单位,约为100A),真空镀 膜的均匀性已经相当好,可以轻 松将粗糙度控制在可见光波长的1/10范围内,也就是 说对于薄膜的光学特性来说,真空镀 膜没有任何障碍。但是如 果是指原子层尺度上的均匀度,也就是说要实现10A甚至1A的表面平整,是现在 真空镀膜中主要的技术含量与技术瓶颈所在,具体控 制因素下面会根据不同镀膜给出详细解释。

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